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霍尼韦尔请求屏障涂层专利构成抗氧化涂层熔点大于约 800 摄氏度

时间:2025-04-29 来源:新闻资讯

  世界公司请求一项名为“屏障涂层”的专利,公开号 CN 119661250 A,请求日期为 2024 年 8 月。

  专利摘要显现,在示例中,供给了一种用于构成高温涂层的办法,该办法有在基底上施加屏障涂层制剂。该屏障涂层制剂包含磷酸一铝;碳化硼;和钨。该办法还包含对该屏障涂层制剂进行热处理以构成抗氧化涂层,其间该抗氧化涂层的熔点大于约 800 摄氏度(℃)。

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